プロセス開発

パターン付きテストウェーハ
・CMP評価用基板

お客様の実験に合わせて設計するテストウェーハとクーポンです。パターン、膜構成、納品する工程段階を指定でき、測定計画は加工前に取り決めます。CMP、めっき、成膜、洗浄、パッケージングの開発にご利用いただけます。

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CMP評価ライン/スペース・パッドアレイバリア・シードめっきオーバーバーデンクーポンまたはウェーハ1枚から
2〜12インチ
ウェーハ径
およびダイシング品
1枚
初回ロットの
最低数量
任意の段階
評価を始める工程で
納品
再現性
レイアウト版数と
プロセス基準を保管
ご注文いただける内容

評価したいことに合わせてウェーハを設計します

材料の比較、プロセスウィンドウの把握、装置評価の準備など、目的に応じて開始構造と加工を止める段階を選択いただけます。

ライン/スペースパッドアレイトレンチ領域基準部

模式図。パターンセルと配置は案件ごとに設計します。

01

パターン付きCMPテストウェーハ

お客様のプロセスで使用する金属・絶縁膜の組み合わせによるライン/スペース、孤立パターン、パッドアレイ。エッチング済みトレンチ、バリア・シード、研磨前のめっきオーバーバーデンまで対応し、CMP後のサンプルは測定計画を取り決めたうえで納品します。

02

プロセス・材料評価クーポン

お客様指定の膜構成と基準領域、ステップカバレッジ・残渣・寸法検査用のレイアウト。装置条件が許す範囲で、ウェーハ全面またはダイシングしたクーポンで納品します。

03

パッケージング評価構造

接合、めっき、実装評価向けのパッドアレイ、デイジーチェーン、ビア・バンプ領域。すべての測定値を位置と対応付けられるよう識別マークを付与します。

概要

パターン付きテストウェーハ ・CMP評価用基板

対応範囲と仕様の選択肢です。各値は案件ごとに見積書で確定します。

2〜12インチ
ウェーハ径 およびダイシング品
1枚
初回ロットの 最低数量
任意の段階
評価を始める工程で 納品
再現性
レイアウト版数と プロセス基準を保管
CMP評価
ライン/スペース・パッドアレイ
バリア・シード
めっきオーバーバーデン
クーポンまたはウェーハ
1枚から
設計と実現可能性

最初に評価内容を定義します

図面と「何を比較したいか」の簡単な説明があれば検討を開始できます。基板、パターン、測定要件を一緒に確認し、不足している情報をお知らせします。

項目お問い合わせに含めていただきたい内容
評価の目的評価対象のプロセスまたは材料、比較する変数、装置とのインターフェース、単発の試験か継続的な基準ロットか。
基板と膜構成ウェーハ材料、直径、厚さ、必要に応じて面方位、各層の材料と目標膜厚および成膜順序。
パターン定義GDSまたは寸法入り図面(線幅、スペース、パッド寸法、トレンチ深さ、局所パターン密度)。測定対象のセルを明示してください。
受入時と納品時の段階開始時のウェーハ状態と必要な終点:パターン付き絶縁膜、バリア・シード、金属オーバーバーデン、CMP後など。
計測と受入基準必要な寸法、膜厚、表面形状、電気データと、その測定方法、走査範囲、測定位置。
数量と繰り返しウェーハまたはクーポンの枚数、プロセススプリット、サンプル識別、同一基準でのリピート発注の予定。
レイアウトからテストロットまで

評価の起点を管理された状態で用意します

工程は選択いただいた納品段階に従います。マスクの版数とプロセススプリットは加工前に確定し、結果の比較可能性を保ちます。

工程の流れ
01評価内容の定義02レイアウトの確認03積層の準備04パターニングと加工05指定の段階で停止06検査と識別
  1. 01評価内容の定義比較変数、重要なパターンセル、納品状態、必要なデータを取り決めます。
  2. 02レイアウトの確認GDSレイヤー、パターン密度、寸法、基準マーク、ウェーハ方位、装置上の制約を確認します。
  3. 03積層の準備基板を調達または受け入れ、取り決めた開始膜を形成します。受入検査を記録します。
  4. 04パターニングと加工選択したリソグラフィ、エッチング、成膜、めっきを実施し、計画したスプリットを適用します。
  5. 05指定の段階で停止中間構造のまま納品するか、取り決めた研磨・洗浄工程まで継続します。
  6. 06検査と識別取り決めた位置を測定し、ウェーハID、レイアウト版数、指定データとともに納品します。
検査と納品

測定データをパターンと対応付けます

各結果をどのように測定するかを加工前に定義します。有用な報告書は、測定値をその位置、パターンセル、プロセス条件と結び付けます。

01

パターン形状

指定した測定領域での寸法、スペース、エッチング深さ、選択した欠陥検査。

02

膜とオーバーバーデン

膜種とパターンに適した方法による膜厚と均一性の測定。

03

CMP後の表面

ディッシング、エロージョン、残存段差、粗さ。基準面と走査範囲を明示します。

04

電気評価構造

レイアウト上のテストアクセスがある場合の導通、抵抗、リーク測定。

納品:取り決めた工程状態のウェーハ全面または識別済みクーポン。レイアウト版数、ウェーハ/クーポンの識別マップ、見積書で指定した測定データを添えます。

対象となるお客様

プロセスを改善する方のためのテスト基板

01

CMP消耗材メーカー

スラリー、パッド、コンディショナー、洗浄の評価用に、実際に研磨される金属・絶縁膜パターンを備えた基板。

02

装置メーカー

同一基準で再現できるウェーハによる装置立ち上げ、チャンバーマッチング、デモ加工。

03

パッケージング・研究チーム

本来はフルマスクセットと量産ラインが必要な構造を、少量で入手できます。

よくあるご質問

評価ロットの前に

見積依頼に完全なGDSファイルは必要ですか。

いいえ。評価の目的、基板形態、膜構成、スケッチまたは寸法入りのパターン説明があれば始められます。レイアウト作成やマスク製作が必要な場合は、その範囲も含めて見積もります。

CMP前のウェーハを購入し、自社で研磨できますか。

はい。パターン付き絶縁膜、バリア・シード、めっきオーバーバーデンなど、指定の中間段階で納品できます。研磨装置が必要とする受入条件をお知らせください。

ディッシング、エロージョン、粗さはどのように指定しますか。

いずれも異なる表面特性です。パターン形状、基準面、測定方法、走査範囲、測定位置と目標値をご指定ください。受入基準は見積書で定義します。

同じテストパターンを再注文できますか。

レイアウト版数、材料構成、プロセス基準を確認したうえでリピートロットを見積もります。固定する変数と変更する変数をお知らせください。

これは在庫品ですか。

いいえ。カスタム加工サービスです。使用可能な開始ウェーハ、最低数量、マスクの要否、日程は案件ごとの検討で決まります。

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この案件でよく組み合わせる工程

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CMP・ウェーハ研削:この案件と組み合わせることが多い工程です。

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詳細ページ

この工程から始まる専用ページ

ダミーダイ・デイジーチェーン試験チップ →

評価対象がウェーハ工程ではなく接続部の場合は、デイジーチェーンダイが適切なビークルです。

Cuピラー・SnAgバンプ →

テストウェーハはバンプ付きで納品することが多く、その際のバンプ工程です。

プロジェクトを開始しましょう。
通常1営業日以内にご返信します。

プロセス要件・基板・生産数量をお知らせください。エンジニアが通常1営業日以内にご返信します。正式なお見積書は、必要な情報の受領および事前に必要なNDAの締結後、通常7〜10営業日以内にご提出します。

技術確認を円滑に進めるため、以下をお知らせください:
基板材料・サイズ  ·  対象プロセス  ·  数量  ·  スケジュール  ·  設計ファイル(初回は不要)

sales@nanosystemsjp.co.jp · +81-3-5288-5569 · NDA対応可

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