MEMS

MEMSファウンドリ
・試作サービス

センサー、アクチュエータ、マイクロ流体、フォトニクスのMEMSをウェーハ1枚から製作します。深掘りエッチング、ウェーハ接合、薄膜、リソグラフィ、リリース、ダイシングを、専任プロジェクトマネージャーが一貫して管理します。図面またはプロセスフローをお送りいただければ、実現可能性とルートをご回答します。

ご注文の流れ →

DRIE・リリースウェーハ接合薄膜SOI・ガラス1枚から試作〜パイロット
1枚
最低
発注数量
2〜12インチ
ウェーハ
>50:1
DRIE
アスペクト比
1営業日
初回ご連絡の
目安
製作対象

必要な工程を一つのプログラムに

MEMSデバイスに必要な工程は一つではありません。6つの工程を正しい順序で、工程間の界面を管理しながら進める必要があります。その調整が当社のサービスです。

01基板02リソグラフィ03深掘りエッチング04薄膜05接合06リリース・ダイシング代表的なMEMSフロー。順序と工程はデバイスに応じて決定します。
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慣性・圧力センサー

SOIまたはバルクシリコンへのDRIEによるばね、可動質量、メンブレン。埋込酸化膜までのキャビティ・裏面エッチング。共晶、陽極、ガラスフリット接合による気密キャップ。

⚙️

マイクロ流体・バイオチップ

シリコン、ガラス、石英の流路とリザーバー、ポート用貫通穴、接合カバー、パターン電極。バイオチップ・マイクロ流体をご覧ください。

🧪

光MEMS・フォトニクス

ミラー、グレーティング、V溝、位置合わせ構造、メタライズ反射膜、ハイブリッド集積用ベンチとサブマウント。

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アクチュエータ・共振器

圧電(AlN、PZT)および静電構造。パターン電極、リリースエッチング、応力制御膜。

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蒸気セル・パッケージ

多層ウェーハ接合によるアルカリ蒸気セルと気密MEMSパッケージ。MEMS蒸気セルをご覧ください。

🔩

評価構造

トレンチラダー、メンブレンアレイ、接合強度クーポン。本製作の前に工程を評価できます。テストウェーハをご覧ください。

概要

MEMSファウンドリ ・試作サービス

対応範囲と仕様の選択肢です。各値は案件ごとに見積書で確定します。

1枚
最低 発注数量
2〜12インチ
ウェーハ 径
>50:1
DRIE アスペクト比
1営業日
初回ご連絡の 目安
DRIE・リリース
ウェーハ接合
薄膜
SOI・ガラス
1枚から
試作〜パイロット
対応範囲

標準的な範囲と個別検討

表は日常的に見積もる範囲です。範囲外は見積前の技術レビューで確認します。

項目代表的な対応範囲備考
基板Si、SOI、ガラス、溶融石英、石英、サファイア。2〜12インチお客様支給または当社調達
深掘りエッチングBosch DRIE。狭幅パターンでアスペクト比50:1超、ウェーハ貫通シリコン深掘りエッチング参照
リソグラフィコンタクト、ステッパー、電子ビーム。多層重ね合わせマスクセットは当社150 mmテンプレートまたはお客様仕様
薄膜スパッタ、蒸着、PECVD、LPCVD、ALD。圧電AlN・PZT材料ライブラリ参照
接合陽極、直接、共晶(AuSn、AuSi、Al-Ge)、接着剤、SLIDキャビティ・真空封止は設計ごとに検討
リリース・ダイシングHF気相・ウェットリリース、超臨界乾燥、ブレード・ステルスダイシング脆弱構造の取り扱いは事前に取り決め
MEMSプログラムの進め方

図面からダイシング済みデバイスまで

工程の流れ
01実現可能性レビュー02プロセス定義03マスクとテストクーポン04製作05リリース・ダイシング・検査06リピートロット
  1. 01実現可能性レビューデバイス図面またはフローを確認し、各工程を上記の範囲と照合して確認事項を整理します。通常1営業日以内。
  2. 02プロセス定義検査ポイント、マスクレイアウト要件、基板仕様を含む工程フローを作成します。
  3. 03マスクとテストクーポンマスクセットの製作。設計上新規の工程は、ウェーハ投入前に短いクーポン評価を行います。
  4. 04製作取り決めた順序でリソグラフィ、エッチング、成膜、接合を実施し、取り決めたポイントで計測します。
  5. 05リリース・ダイシング・検査構造のリリース、個片化、見積書に定めた検査納品物(光学、SEM、段差計、電気)。
  6. 06リピートロットフローを保管し、以降のロットは数量、納期、変更点のみで承ります。
送っていただきたい情報

実現可能性の回答のために

項目あると助かる情報
デバイス図面またはプロセスフロー層厚入りの断面スケッチ。GDSがあればGDS。重要寸法の指定
基板材料、直径、厚さ、SOIのデバイス層・BOX厚、支給の有無
重要工程リスクが高いと考える1〜2工程(深掘り深さ、接合の気密性、リリース時のスティクションなど)
数量と段階実現可能性クーポン、試作ウェーハ、パイロットロット。希望納期
制約最高プロセス温度、使用不可材料、ウェーハ上の既存デバイス
よくあるご質問

発注前に確認されることの多い質問

最低発注数量は?

ウェーハ1枚です。単一工程の確認が先に必要な場合は実現可能性クーポンも可能です。

既存のプロセスフローで製作できますか?

はい。層厚と重要寸法付きのフローをお送りください。各工程を当社の範囲と照合し、通常1営業日以内に確認事項をお返しします。

マスクも製作しますか?

はい。当社の150 mmテンプレートまたはお客様のマスク仕様で製作します。

関連サービス

シリコン深掘りエッチング:この案件と組み合わせることが多い工程です。

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1営業日以内を目安にご連絡いたします。

プロセス要件・基板・生産数量をお知らせください。株式会社ナノシステムズJPのエンジニアが1営業日以内を目安にご連絡いたします。詳細見積もりは通常7〜10営業日以内。

円滑な技術検討のため、以下の情報をお知らせください。
基板材料・サイズ  ·  対象プロセス  ·  数量  ·  スケジュール  ·  設計ファイル(初回は不要)

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